2 Fabricantes de Sistemas de Deposición Química en Fase Vapor (Cvd) en 2024

¿Qué son los Sistemas de Deposición Química en Fase Vapor (CVD)?

Los sistemas de deposición química en fase vapor (CVD) se utilizan para el crecimiento de películas finas y el tratamiento de superficies.

Los sistemas de deposición química en fase vapor (CVD) calientan un sustrato o material base y suministran gases reactivos o vapores en fase gaseosa a su superficie. Las sustancias reactivas del sustrato reaccionan químicamente y forman una película o revestimiento.

Este proceso permite producir una amplia gama de películas finas y recubrimientos; el CVD es altamente controlable y reproducible, lo que permite cultivar películas finas de alta calidad. Es posible controlar propiedades que requieren control, como el grosor, la uniformidad y la cristalinidad de la película. Sin embargo, los gases utilizados suelen ser muy tóxicos y deben manipularse con cuidado.

Usos de los Sistemas de Deposición Química en Fase Vapor (CVD)

Los sistemas de deposición química en fase vapor (CVD) se utilizan a menudo para productos semiconductores. Los siguientes son ejemplos de aplicaciones de los sistemas CVD.

1. Producción de Semiconductores

El CVD es una tecnología muy importante en la industria de los semiconductores. Por ejemplo, el CVD se utiliza para hacer crecer películas de SiO2 sobre sustratos de silicio. Éste se utiliza como aislante y es importante como capa aislante y óxido de compuerta para circuitos integrados.

El CVD también puede utilizarse para producir películas de metales como el cobre o el aluminio. Esto permite la formación de capas conductoras como cables y electrodos.

2. Recubrimientos Ópticos

El CVD desempeña un papel importante en la fabricación de dispositivos ópticos y componentes ópticos. En primer lugar, se pueden cultivar filtros ópticos multicapa. Éstos controlan la transmisión o la reflectividad de la luz en una gama específica de longitudes de onda y se utilizan como filtros espectrales o revestimientos antirreflectantes.

Los revestimientos de espejos altamente reflectantes también pueden obtenerse mediante CVD para mejorar la reflectividad de los rayos láser y la óptica. En las lentes, se forman revestimientos protectores en la superficie para mejorar la resistencia al desgaste y la durabilidad.

3. Recubrimientos Protectores

Los revestimientos protectores pueden formarse en superficies metálicas para mejorar la resistencia a la corrosión y al desgaste. Se utilizan para el tratamiento superficial de piezas y herramientas metálicas. También se utiliza en herramientas de corte cerámicas y sensores para formar revestimientos protectores en la superficie de los materiales.

Principio de los Sistemas de Deposición Química en Fase Vapor (CVD)

Los sistemas de deposición química en fase vapor (CVD) son un proceso que utiliza reacciones químicas para depositar sustancias químicas en fase gaseosa sobre superficies sólidas.

En primer lugar, se suministran al equipo gases o vapores de reacción. Estos gases son en su mayoría palabras que contienen los elementos y productos químicos necesarios para la deposición y el recubrimiento. Entre los gases de reacción más comunes se encuentran los compuestos metalorgánicos, el oxígeno y el nitrógeno.

El sustrato suele calentarse para promover una reacción química entre los gases de reacción y el sustrato. En el sustrato calentado, los gases de reacción experimentan una reacción química. De este modo, los elementos y productos químicos del gas de reacción se depositan en la superficie del sustrato, lo que permite el crecimiento de películas finas.

El control del proceso de deposición es importante en los sistemas de deposición química en fase vapor (CVD). Las propiedades deseadas de las películas finas pueden conseguirse ajustando parámetros como la velocidad de deposición y la temperatura de calentamiento.

Tipos de Sistemas de Deposición Química en Fase Vapor (CVD)

Existen diferentes tipos de equipos CVD, entre los que se incluyen los equipos CVD térmicos, los equipos CVD de plasma y los equipos CVD ópticos.

1. Sistemas de Deposición Química en Fase Vapor (CVD) Térmico

Los sistemas de deposición química en fase vapor (CVD) térmicos transportan gases de materia prima a un recipiente y calientan el sustrato o el interior del recipiente, provocando así que los gases de materia prima reaccionen químicamente en el sustrato. Existen métodos en los que sólo el sustrato se calienta a alta temperatura o el interior del recipiente se calienta a alta temperatura.

2. Sistemas de Deposición Química en Fase Vapor (CVD) por Plasma

Los sistemas de deposición química en fase vapor (CVD) por plasma permiten plastificar los gases utilizados como materia prima y apilarlos sobre el sustrato. Como las películas pueden formarse a temperaturas de sustrato más bajas que con los sistemas de deposición química en fase vapor (CVD) térmicos, esto resulta ventajoso en la fabricación de semiconductores donde se requieren dimensiones de alta precisión.

3. Sistemas de Deposición Química en Fase Vapor (CVD) Ópticos

Los sistemas de deposición química en fase vapor (CVD) ópticos provocan reacciones químicas irradiando luz a través de tubos de descarga o láseres sobre los gases utilizados como materia prima. La luz se utiliza de diferentes maneras dependiendo del tipo de luz, como por ejemplo para acelerar reacciones químicas o para romper enlaces entre moléculas. Se caracteriza por su capacidad de producir películas a temperaturas muy bajas en comparación con otros sistemas de deposición química en fase vapor (CVD).