1 Fabricantes de Steppers en 2024

¿Qué es un Stepper?

Un steppers es un sistema de exposición por proyección utilizado en fotolitografía, que es el proceso de fabricación de semiconductores y cristales líquidos.

En el contexto de la fabricación de circuitos integrados cada vez más pequeños, resulta más difícil crear patrones de fotomáscara del tamaño real. Para abordar este desafío, se utiliza el método de paso y repetición. En este método, al exponer obleas semiconductoras o sustratos de cristal líquido, el área de exposición se divide en varias secciones. Una vez que se ha expuesto una sección, se realiza un desplazamiento a la siguiente sección (paso) y se repite el proceso de exposición (repetición).

Un steppers es un tipo de sistema de exposición que permite exponer toda el área a exponer mientras se realiza un paso y se repite el proceso.

Usos de los Stepperss

Los stepperss se utilizan en la fabricación de semiconductores y cristales líquidos, sobre todo para realizar procesos de exposición mediante máscaras en el proceso de fotolitografía.

Existen dos tipos de sistemas de paso a paso: el sistema de paso y repetición, que realiza exposiciones secuenciales mientras se va pisando la oblea porque la superficie que se puede transferir de una sola vez es pequeña, y el sistema de escáner, que realiza exposiciones escaneando la retícula y la oblea de forma sincrónica a una velocidad correspondiente al aumento de la proyección; este último se distingue de los sistemas de paso a paso. Este último se distingue de un stepper y puede tratarse como un escáner.

Principios de los Stepperss

Los stepperss utilizan una fuente de luz con una longitud de onda corta para lograr una alta resolución y proyectar patrones de máscara de CI en un retículo para la exposición de proyección reducida de alta velocidad de obleas de gran diámetro y cristales líquidos, tras lo cual se mueve la platina para repetir la exposición de múltiples patrones en la oblea. La estructura interna de un steppers incluye una fuente de luz de exposición, una lente de proyección, una platina para obleas y un cargador de obleas.

Las fuentes de luz de exposición con longitudes de onda más cortas se están utilizando en consonancia con la demanda de integración a mayor escala de circuitos integrados. En los años 90, la luz i-line de 365 nm era la principal fuente de luz, pero desde entonces se han utilizado longitudes de onda más cortas, como Krf (longitud de onda: 248 nm) y Arf (longitud de onda: 193 nm).

Las etapas de oblea se utilizan para mover obleas a alta velocidad con el fin de fabricar semiconductores como circuitos integrados con mayor rapidez y productividad. Además del movimiento a alta velocidad, se requiere una gran precisión de posicionamiento para el procesamiento fino. Los cargadores de obleas se encargan de transportar las obleas, como retirarlas de la plataforma de obleas y colocarlas en ella.

La adherencia de cuerpos extraños es uno de los principales enemigos en la fabricación de circuitos integrados, y las sensibles obleas deben cargarse y descargarse a gran velocidad. Las stepperss realizan la exposición secuencial mientras pisan las obleas en la configuración anterior.

Más Información sobre los Stepperss

1. Inmersión

Debido a la gran demanda de precisión de los stepperss y sistemas de escáner en la actualidad, éstos están equipados con mecanismos a gran escala, y el precio unitario por unidad está aumentando. Por lo tanto, a medida que los nodos del proceso de cableado se hacen más finos, no es deseable realizar de repente grandes cambios en las fuentes de luz y en los mecanismos de los equipos, y se tiende a intentar mejorar los equipos a lo largo de varias generaciones para sacarles el máximo partido.

Una de las tecnologías para conseguirlo es la "inmersión". La inmersión es una técnica por la que se introduce una solución, como agua pura, entre la resistencia de la oblea y la lente de proyección para aumentar la resolución de exposición de la fuente de luz acortando la longitud de onda de la luz en comparación con la del aire. Es una de las tecnologías utilizadas en los procesos fotolitográficos más avanzados.

2. Litografía EUV

La litografía ultravioleta extrema (litografía EUV), también conocida como litografía ultravioleta extrema, es una parte central de la próxima generación de tecnologías de exposición para nodos de proceso de vanguardia a varios nm, que pueden exponerse a una longitud de onda de 13,5 nm. Los principales fabricantes de semiconductores del mundo que compiten en los procesos más avanzados utilizan esta tecnología, pero desde 2022, existe actualmente un monopolio de un solo fabricante en el mundo que ha comercializado equipos de litografía EUV.